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電解水處理器廠家助力企業零排放

電解除垢系統(HGEST)詳見 http://www.vzy.net.cn/product/list/20170106090733.html 

新千年的革命性發展，HGEST代表了在線除垢技術的新水平。HGEST通過電解原理來實現設備保護和除垢目的，主要用于賓館飯店、醫院、學校、大型公共場所的冷熱水

系統、工業冷卻循環水、中央空調系統冷卻循環水、飲用水等領域。

水在反應室內進行處理，經歷了電解的過程。在電解過程中，陰極發生化學反應產生OH-離子，增加反應室內壁附近的pH值，加強反應室壁附近的堿性環境。

鄰近反應室壁的擴散層，擾亂了水垢的化學平衡，形成碳酸鈣從水中析出，附著在內壁上。

同時陰極的電流導致溶解的重金屬元素的離子形成沉淀，沉到反應室底部。應該提請注意的是HGEST不是電解軟水器。HGEST系統沉淀出來的碳酸鈣是那些在冷卻水管路

中易于沉積下來的部分。這些有害的沉積，會堵塞管道，產生水垢和增加腐蝕，降低熱交換效率，阻礙生產。EST系統能夠把進入反應室水中的鈣永久的沉淀去除30%以

上。這個百分比也會隨著水中的組成而變化。

在反應室內壁附近發生的主要化學反應有：

2H2O (l) + 2e- → H2 (氣) + 2OH- (aq)

堿性溶液中發生的反應（陰極附近）

CO2(aq)+ OH-(aq) → HCO3- (aq)

HCO3- (aq) + OH- (aq) → CO32-(aq) + H20(液)

Ca2+(aq) 鈣離子可能形成

氫氧化鈣: Ca(OH)2(垢)

碳酸鈣: CaCO3(垢) 

電解水處理器廠家助力企業零排放

陽極附

電解除垢系統(EST)

新千年的革命性發展，HGEST代表了在線除垢技術的最新水平。EST通過電解原理來實現設備保護和除垢目的，主要用于賓館飯店、醫院、學校、大型公共場所的冷熱水

系統、工業冷卻循環水、中央空調系統冷卻循環水、飲用水等領域。

水在反應室內進行處理，經歷了電解的過程。在電解過程中，陰極發生化學反應產生OH-離子，增加反應室內壁附近的pH值，加強反應室壁附近的堿性環境。

鄰近反應室壁的擴散層，擾亂了水垢的化學平衡，形成碳酸鈣從水中析出，附著在內壁上。

同時陰極的電流導致溶解的重金屬元素的離子形成沉淀，沉到反應室底部。應該提請注意的是HGEST不是電解軟水器。HGEST系統沉淀出來的碳酸鈣是那些在冷卻水管路

中易于沉積下來的部分。這些有害的沉積，會堵塞管道，產生水垢和增加腐蝕，降低熱交換效率，阻礙生產。EST系統能夠把進入反應室水中的鈣永久的沉淀去除30%以

上。這個百分比也會隨著水中的組成而變化。

在反應室內壁附近發生的主要化學反應有：  詳見 http://www.vzy.net.cn/product/list/20170106090733.html 

2H2O (l) + 2e- → H2 (氣) + 2OH- (aq)

堿性溶液中發生的反應（陰極附近）

CO2(aq)+ OH-(aq) → HCO3- (aq)

HCO3- (aq) + OH- (aq) → CO32-(aq) + H20(液)

Ca2+(aq) 鈣離子可能形成

氫氧化鈣: Ca(OH)2(垢)

碳酸鈣: CaCO3(垢) 

陽極附近發生的化學反應有：

生成氧氣

4HO- → O2(g) + 2H20 + 4e-

游離氯

Cl- – e- → Cl0

氯氣

2Cl-(aq) → Cl2(g) + 2e-

臭氧

O2 + 2HO- – 2e- → O3(g) + H2O

自由基

OH- – e- → OH0

過氧化氫

2H2O – 2 e- → H2O2 + 2H+

氧自由基

2H2O – 2e- → O0 + 2 H+

反應室

電解水處理器廠家助力企業零排放

特殊長壽命鈦基電極，專門為大電流而設計，表面涂覆氧化鎳涂層（TiNiO），該電極是杭州桂冠環保科技有限公司專門為HGEST系統設計的。

微電腦控制的全自動活塞，用于自動清理反應室中形成的水垢。

①      反應室（陰極）②      陽極③      馬達④      進水口⑤      排污口⑥      刮刀⑦      出水口⑧      供電和控制單元

⑨      刮刀導桿供電和控制單元包括

一個用于停止系統動作的重置按鈕。電導率測試電路，用于根據所處理的水的電導率來調整工作電流。

根據不同的處理程序提供相應的可選擇功能。

監測EST系統的工作狀態，配電柜面板上有四個數據顯示，電導率，電解電流pH

除垢和自清洗過程必要的時候，微電腦給出命令，驅動馬達，這個刮刀與反應室的內部尺寸正好吻合。進水閥門自動關閉，馬達緩慢旋轉，將反應室內壁上的軟性的水

垢清掃和刮洗到反應室的底部，接著出水閥門自動打開，通過一臺大功率的泵將積累起來的水垢抽出反應室。最后進水閥門打開，新鮮的水進入反應室。這個過程周期

性進行，由EST微電腦控制。

HGEST系統在冷卻水系統的兩個應用

HGEST系統和冷卻塔的組合方式有兩種：

在冷卻塔中，HGEST系統能在兩種情形中組合。

A 補給水處理；

B 冷卻循環水旁流處理。

選擇A 時，HGEST系統安裝在補給水管路上，只處理補給水。HGEST系統的大小由此流量確定。

選擇B 時，所有的冷卻水都被處理。在冷卻水循環系統和EST系統之間須要安裝一臺循環泵，所有的冷卻水都被處理，包括補充水。這是根據客戶需要的解決方案，因

為隨著濃縮倍率的增加，水的硬度也會增加。在這種情況下，EST系統需要適當調整大小。

注意：泵是可選項。

標準設計有下面五種流量，大流量設計請洽代理商。詳見 http://www.vzy.net.cn/product/list/20170106090733.html 

HGEST 5，流量5 m3/hr；HGEST 5表示5m3/h；

HGEST 10，流量10 m3/hr；

HGEST 15，流量15 m3/hr；

HGEST 25，流量25 m3/hr。

工作壓力為6bar。

最大工作溫度50℃。正常使用情況下，EST系統保質期12月。

根據多年的經驗和研究，在EST預結垢系統中，既能沉淀那些傾向沉淀的垢，但也能導致硅石沉淀。硅石沉積是因為在水中與其他礦物質的聚合和沉淀，沉淀其他多價

離子與其發生反應。

硅石的溶解性取決于很多因素，例如：pH 值，溫度，水中微粒的大小，微粒的水合作用以及其它存在的離子。堅硬硅石垢是在碳酸鈣或者其它礦物質的沉積誘導硅石

的晶格形成。只有通過絕對控制腐蝕和微生物才可能預防硅石沉淀。

杭州桂冠環保科技有限公司已經研發了電解系統用來防止垢結晶以及硅石的沉淀。電解系統與EST系統串聯起來使用，輔助EST、更好的推動以及更有效的在水系統中對

硅石沉淀和防止硅石結晶。+電解系統由不同材料通過不同部件以及健康部門允許的標準組成的陽極所構成，用來阻止硅石垢結晶。

累計水垢被泵送通過高功率泵離開反應室。 。最后，入口閥打開，淡水進入反應室。該過程周期性地執行并由HGEST微計算機控制。 HGEST系統在冷卻水系統中的兩種

應用 將HGEST系統和冷卻塔結合使用有兩種方法： 在冷卻塔中，HGEST系統可以在兩種情況下組合。 補水處理; B冷卻循環水旁路處理。 選擇A時，HGEST系統安裝在

供應線上，僅供應補給水。 HGEST系統的大小由該流程確定。 選擇B時，處理所有冷卻水。冷卻水循環系統和HGEST系統之間需要循環泵，所有冷卻水都經過處理，包

括補給水。這是一種基于客戶需求的解決方案，因為隨著濃度比的增加，水的硬度增加。在這種情況下，HGEST系統需要適當調整大小。 注意：泵是可選的。 標準設

計有以下五種流程，請聯系代理商進行大流量設計。 HGEST 5，流速5 m3/hr; HGEST 5表示5m3/h; HGEST 10，流量10 m3/hr; HGEST 15，流量15 m3/hr; HGEST 25，

流量25 m3/hr。 工作壓力為6巴。 最高工作溫度為50°C。在正常使用情況下，HGEST系統的保質期為12個月。 根據多年的經驗和研究，在HGEST預定標系統中，可以

沉淀那些傾向于沉淀的水垢，但也會導致二氧化硅沉淀。二氧化硅沉積物是由于水中其他礦物質的聚合和沉淀，并且其他多價離子的沉淀與它們反應。二氧化硅的溶解

度取決于許多因素，例如pH，溫度，水中的粒度，顆粒的水合作用和存在的其他離子。硬質二氧化硅垢是由碳酸鈣或其他礦物質的沉積誘導的二氧化硅的晶格形成。只

能通過絕對控制腐蝕和微生物來防止二氧化硅沉淀。 杭州桂冠環保科技有限公司開發了一種電解系統，可防止結垢和二氧化硅沉淀。電解系統與HGEST系統串聯使用，

以幫助HGEST，更好地推進和更有效地在水系統中沉淀二氧化硅并防止二氧化硅結晶。電解系統由不同材料的陽極通過衛生部門批準的不同組分和標準組成，以防止二

氧化硅結垢。近發生的化學反應有：

生成氧氣

4HO- → O2(g) + 2H20 + 4e-

游離氯

Cl- – e- → Cl0

氯氣

2Cl-(aq) → Cl2(g) + 2e-

臭氧

O2 + 2HO- – 2e- → O3(g) + H2O

自由基

OH- – e- → OH0

過氧化氫

2H2O – 2 e- → H2O2 + 2H+

氧自由基

2H2O – 2e- → O0 + 2 H+

反應室

電解水處理器廠家助力企業零排放

特殊長壽命鈦基電極，專門為大電流而設計，表面涂覆氧化鎳涂層（TiNiO），該電極是杭州桂冠環保科技有限公司專門為EST系統設計的。

微電腦控制的全自動活塞，用于自動清理反應室中形成的水垢。

①      反應室（陰極）②      陽極③      汽缸④      進水口⑤      排污口⑥      刮刀⑦      出水口⑧      供電和控制單元

⑨      刮刀導桿供電和控制單元包括

一個用于停止系統動作的重置按鈕。電導率測試電路，用于根據所處理的水的電導率來調整工作電流。

根據不同的處理程序提供相應的可選擇功能。

監測EST系統的工作狀態，配電柜面板上有四個數據顯示，電導率，電解電流pH

除垢和自清洗過程必要的時候，微電腦給出命令，驅動馬達，這個刮刀與反應室的內部尺寸正好吻合。進水閥門自動關閉，馬達緩慢旋轉，將反應室內壁上的軟性的水

垢清掃和刮洗到反應室的底部，接著出水閥門自動打開，通過一臺大功率的泵將積累起來的水垢抽出反應室。最后進水閥門打開，新鮮的水進入反應室。這個過程周期

性進行，由EST微電腦控制。

HGEST系統在冷卻水系統的兩個應用

HGEST系統和冷卻塔的組合方式有兩種：

在冷卻塔中，EST系統能在兩種情形中組合。

A 補給水處理；

B 冷卻循環水旁流處理。

選擇A 時，HGEST系統安裝在補給水管路上，只處理補給水。HGEST系統的大小由此流量確定。

選擇B 時，所有的冷卻水都被處理。在冷卻水循環系統和EST系統之間須要安裝一臺循環泵，所有的冷卻水都被處理，包括補充水。這是根據客戶需要的解決方案，因

為隨著濃縮倍率的增加，水的硬度也會增加。在這種情況下，EST系統需要適當調整大小。

注意：泵是可選項。

標準設計有下面五種流量，大流量設計請洽代理商。詳見 http://www.vzy.net.cn/product/list/20170106090733.html 

EST 5，流量5 m3/hr；EST 5表示5m3/h；

EST 10，流量10 m3/hr；

EST 15，流量15 m3/hr；

EST 25，流量25 m3/hr。

工作壓力為6bar。

最大工作溫度50℃。正常使用情況下，HGEST系統保質期12月。電解水處理器廠家助力企業零排放

根據多年的經驗和研究，在EST預結垢系統中，既能沉淀那些傾向沉淀的垢，但也能導致硅石沉淀。硅石沉積是因為在水中與其他礦物質的聚合和沉淀，沉淀其他多價

離子與其發生反應。

硅石的溶解性取決于很多因素，例如：pH 值，溫度，水中微粒的大小，微粒的水合作用以及其它存在的離子。堅硬硅石垢是在碳酸鈣或者其它礦物質的沉積誘導硅石

的晶格形成。只有通過絕對控制腐蝕和微生物才可能預防硅石沉淀。

杭州桂冠環保科技有限公司已經研發了電解系統用來防止垢結晶以及硅石的沉淀。電解系統與HGEST系統串聯起來使用，輔助EST、更好的推動以及更有效的在水系統中

對硅石沉淀和防止硅石結晶。+電解系統由不同材料通過不同部件以及健康部門允許的標準組成的陽極所構成，用來阻止硅石垢結晶。

累計水垢被泵送通過高功率泵離開反應室。 。最后，入口閥打開，淡水進入反應室。該過程周期性地執行并由HGEST微計算機控制。 HGEST系統在冷卻水系統中的兩種

應用 將HGEST系統和冷卻塔結合使用有兩種方法： 在冷卻塔中，HGEST系統可以在兩種情況下組合。 補水處理; B冷卻循環水旁路處理。 選擇A時，HGEST系統安裝在

供應線上，僅供應補給水。 HGEST系統的大小由該流程確定。 選擇B時，處理所有冷卻水。冷卻水循環系統和HGEST系統之間需要循環泵，所有冷卻水都經過處理，包

括補給水。這是一種基于客戶需求的解決方案，因為隨著濃度比的增加，水的硬度增加。在這種情況下，HGEST系統需要適當調整大小。 注意：泵是可選的。 標準設

計有以下五種流程，請聯系代理商進行大流量設計。 HGEST 5，流速5 m3/hr; HGEST 5表示5m3/h; HGEST 10，流量10 m3/hr; HGEST 15，流量15 m3/hr; HGEST 25，

流量25 m3/hr。 工作壓力為6巴。 最高工作溫度為50°C。在正常使用情況下，HGEST系統的保質期為12個月。 根據多年的經驗和研究，在HGEST預定標系統中，可以

沉淀那些傾向于沉淀的水垢，但也會導致二氧化硅沉淀。二氧化硅沉積物是由于水中其他礦物質的聚合和沉淀，并且其他多價離子的沉淀與它們反應。二氧化硅的溶解

度取決于許多因素，例如pH，溫度，水中的粒度，顆粒的水合作用和存在的其他離子。硬質二氧化硅垢是由碳酸鈣或其他礦物質的沉積誘導的二氧化硅的晶格形成。只

能通過絕對控制腐蝕和微生物來防止二氧化硅沉淀。 杭州桂冠環保科技有限公司開發了一種電解系統，可防止結垢和二氧化硅沉淀。電解系統與HGEST系統串聯使用，

以幫助HGEST，更好地推進和更有效地在水系統中沉淀二氧化硅并防止二氧化硅結晶。電解系統由不同材料的陽極通過衛生部門批準的不同組分和標準組成，以防止二

氧化硅結垢。 詳見 http://www.vzy.net.cn/product/list/20170106090733.html HG